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办法？
单说那个光刻机双工作台的核心技术，11年获得国家02专项立项至今，思念过去了还没出结果。
技术攻破首要是资金，没有资金学人开什么公司？做什么技术开发？
凭那么点天真热血的冲动想法而忽略了脚下不牢靠的基石，太蠢了。
郑河如是冷漠傲慢的想着，打发走计海，将消息简单汇报给陈天鹤。
陈天鹤正从私人专机上下来，落到美国的土地上。
“陈惊g的事以后不用跟我说。”
陈天鹤冷漠的说。
他抬头观看这座灯火通明的城市――
加利福尼亚州圣迭戈市，高通总部。
陈天鹤此行的目的。
光源系统是光刻机制造的核心，是晶圆光刻工程的起始步，与光刻工程后续每一步息息相关。
光源系统主要三大单元是光的产生、收集和均一化，初代光刻机的光源系统还包括光的纯化，但第四代、第五代的激光器产生的光源已经达到要求，只需要让光均匀化就行。
光是雕刻的工具，由激光器产生，涉及三项技术指标即光刻分辨率、套刻精度和产能。
光刻分辨率有一道计算公式，照公式调整影响因数从而提高光刻分辨率，这方而难度不大，但是受掩膜设计、抗蚀剂工艺等牵制，必须同时达到最佳化才能实现理想的光刻分辨率。
套刻精度与光刻分辨率相关，直接受其影响。
至于产能，则与光源系统的稳定相关。
以上是对激光器的要求，相对整个光源系统的技术要求不算高，系统工程程序中最难的步骤是光的收集。
收集难度大，转化效率也低。
雷客坐在电脑前，操纵鼠标在软件里做精密的计算：“所需的极紫外光必须在真空下进行反射，不能被折射，因为它非常容易被吸收。真空腔内的反射镜需要特殊镀膜，把这束光，从光源一路引导到晶圆……经过十几次反射，最终剩下的光线不到2！”
围观过来的研发部成员倒吸一口凉气，虽早知光源转化率低，但听到这数字还是低得让他们心疼。
光源转化率低就意味着能量的巨大消耗，最直观的例子，一台euv机器输出功率两百瓦左右，工作一天，耗电三万度。
光线利用率不到2已经是优化其他性能所能够得到的最佳数据，决定该性能优化的决定性关键就是反射镜的精度。
“精度必须以
